Pengaruh Teknologi Sistem Plasma Lucutan Pijar terhadap Tingkat Pengerasan Permukaan Logam
DOI:
https://doi.org/10.36499/jim.v4i1.634Abstract
Permukaan material logam yang keras dan tahan aus, dan didukung oleh inti yang ulet serta tahan akan pembebanan statis maupun pembebanan dinamis, sangat diperlukan dalam industri pada masa sekarang ini. Sifat – sifat mekanik yang berbeda tersebut, dapat digabungkan dalam suatu material logam dengan jalan proses perlakuan pengerasan permukaan logam, yang antara lain : karburasi, nitridasi, flame hardening, induksi dan yang paling baru dan sekarang ini banyak sekali dikembangkan adalah pengerasan dengan Sistem Plasma. Sistem pengerasan permukaan pada material yang berbahan dasar logam dengan menggunakan plasma, mempunyai metode prinsip pendeposisian atom – atom, antara lain salah satunya adalah pendeposisian atom karbon atau atom nitrogen pada permukaan logam, sehingga dapat terbentuk persenyawaan Fe – C atau Fe – N yang bersifat sangat keras pada permukaan logam. Kata kunci : plasma, pengerasan permukaanDownloads
Published
Issue
Section
License
Authors who publish with this journal agree to the following terms:
The journal allow the authors to hold the copyright without restrictions and allow the authors to retain publishing rights without restrictions.
Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.